Applied Materials công bố công nghệ mới cho vi xử lý AI 2nm: Xử lý bề mặt dạng tự do bức xạ Viva và phương tiện khắc Sym3 Z Magnum PVT2

Ngày 12 tháng 2 năm 2026, Applied Materials (AMAT) đã công bố các hệ thống phủ lớp, khắc và cải tiến vật liệu nhằm tăng hiệu suất và tiết kiệm năng lượng cho các tế năng lượng tử GAA tại quy mô 2nm và vượt trội, tập trung vào kỹ thuật cấu trúc tại cấp độ nguyên tử để đáp ứng các yêu cầu xử lý AI.

Công nghệ xử lý bề mặt dạng tự do bức xạ Viva có thể làm sạch và đều bề mặt các nanosheet GAA, giảm tác động của các khuyết tật, đồng thời cải thiện độ dẫn điện. Hệ thống phủ lớp điện tử học phân tử Spectral Centris phủ lớp đơn晶体 tantalum cho các dây dẫn, có thể giảm điện trở tiếp xúc tới mức cao nhất 15% so với vật liệu truyền thống là wolfram.

Trong khắc tiên tiến, phương tiện Sym3 Z Magnum tích hợp PVT2 để tạo các hốc sâu có độ sâu và chiều sâu cao chính xác dưới kiểm soát ion, phục vụ cho các quy trình GAA, DRAM/HBM, với hơn 250 bộ điều chế quy trình được triển khai toàn cầu. Những cải tiến này hỗ trợ việc tiếp tục việc mở rộng theo quy luật Moore và tính toán thế hệ tiếp theo cho AI.