美国初创Substrate发布X射线光刻技术，成本仅为ASML（ASML-US）设备的十分之一，拟挑战台积电（2330-TW）与三星

美国初创Substrate 5月30日发布突破：X射线光刻设备成本仅5000万美元，为ASML（ASML-US）高NA EUV系统的十分之一。公司计划自建晶圆厂并与台积电（2330-TW）、三星直接竞争。

Substrate称已集成紧凑粒子加速器，实现12纳米特征印刷，全晶圆误差约0.25纳米，单次曝光可省去多重图案化。但技术需全新光刻胶、掩模及光学材料，专家估计至少五年方可量产。

EUV光刻商业化耗时十余年，Substrate目标为替代整个光刻环节。虽非唯一探索粒子加速器光源的企业，但其垂直整合制造的野心使其与众不同。